Carl Zeiss AG, Deutschland

Raum für Präzisionsoptik

Vakuumkammer eines EUV-Beleuchtungssystems für künftige Lithographiesysteme zur Halbleiterproduktion.

Objektive für die Mikrolithographie

Objektive für die Mikrolithographie, ein wesentlicher Produktionsschritt bei der Herstellung von Mikrochips, entwickelt und produziert die Carl Zeiss SMT AG.

Optik der Zukunft

Spiegelsystem für das Muster eines EUV-Belichtungssystems (Extreme Ultra Violet) für kommende Chip-Generationen.

Schreibe einen Kommentar

Deine E-Mail-Adresse wird nicht veröffentlicht. Erforderliche Felder sind mit * markiert.

Diese Website verwendet Akismet, um Spam zu reduzieren. Erfahre mehr darüber, wie deine Kommentardaten verarbeitet werden.